| 氮化层厚度 | 150nm |
|---|---|
| 制备 | LPCVD |
| 表面 | 双面氮化 |
| 特性 | 导电 |
| 用途 | 电子科研 |
| 种类 | 化合物半导体 |
| 品牌 | 特博 |
| 加工定制 | 是 |
哈尔滨特博科技有限公司是全国第二大氮化硅片供应商，对氮化硅片生产有8年以上的制备经验。
欢迎全国贸易商以及科研高校与我司建立长期合作关系。合作双赢。
氮化层硅片是科研领域不可缺少的实验材料，他广泛应用于微电子 光电子
高能物理等领域。
规格如下
品名 | 氮化层硅片 |
尺寸 | 4寸（100.2mm） |
氮化层厚度 | 40nm /50nm/150nm |
货物类型 | 现货供应 |
其他要求 | 可定制 |
工艺采用LPCVD--低压CVD定制，具有均匀性好，应力低，成膜质量好等优点。
我们也提供PECVD工艺方式，如有需求，请来电咨询。
